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細かな不純物を除去するプラズマクリーナー

半導体や電子機器、レンズなどの精密機器を製造する過程では有機物や無機物による様々な汚れが発生します。品質を劣化させる不純物を取り除く方法にはウェット洗浄とドライ洗浄の2種類があります。ウェット洗浄はアンモニアや塩酸、過酸化水素水や超純水を使用して不純物を除去します。薬液に対象物を浸す方法は静電気が発生せず細かな部分まで洗浄でき、超音波やバブリングを併用すればさらに効果が高まります。

スプレー状にして吹きかける方法は効率的で再汚染が起こりにくく、薬液の量が少なくて済みます。ウェット洗浄は比較的簡単ですが、高価な超純水を使用し薬液をリンスで洗い流して乾燥させるので時間がかかります。精密機器は完成までに何度も洗浄作業を繰り返すので、生産性の向上を求める場合には適していません。時間や資金に余裕があり、簡単な方法で確実に汚れを除去したい場合にはウェット洗浄を選ぶとよいでしょう。

コストを抑えつつ効率的に汚れを除去して、品質だけでなく生産性も向上させたい場合にはドライ洗浄を行うプラズマクリーナーがおすすめです。プラズマクリーナーはアルゴンガスや酸素ガスを減圧されたチャンバー内に導入し、高周波電力でプラズマを発生させます。アルゴンガスを使うタイプは、加速したイオンを有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばします。酸素ガスを使うタイプは原子が有機物を化学反応で二酸化炭素と水分子に変えます。

プラズマクリーナーには異なる処理方式があり、最適なタイプを使うと効率的に細かな不純物を除去できます。プラズマクリーナーのことならこちら

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